碳化硅(SiC) 、氧化铝(Al 2 O 3 ) 和氮化硅（Si 3 N 4 ）是优良的高温结构陶瓷，在工业生产和科技领域有重要用途。宇宙火箭和导弹中，大量用钛代替钢铁。 (1)Al的离子结构示意图为 ； Al与NaOH溶液反应的离子方程式为 (2)氮化硅抗腐蚀能力很强，但易被氢氟酸腐蚀，氮化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和一种铵盐， 其反应方程式为 （3）工业上用化学气相沉积法制备氮化硅，其反应如下： 3SiCl 4 (g) + x N 2 (g) + 6 H 2 (g) Si 3 N 4 (s) + 12 HCl(g)   △H＜0 在恒温、恒容时，分别将0.3mol SiCl 4 (g)、0.2mol N 2 (g)、0.6mol H 2 (g)充入2 L密闭容器内，进行上述反应，5 min达到平衡状态，所得HCl(g)为0.3mol/L、 N 2 为0.05 mol/L ① H 2 的平均反应速率是 ② 反应前与达到平衡时容器内的压强之比= ③ 系数 x = (4)已知：TiO 2 (s)＋2Cl 2 (g)===TiCl 4 (l)＋O 2 (g)  Δ H 1 ＝＋140 kJ·mol －1 C(s)＋ O 2 (g)=== CO(g)    Δ H 2 ＝－110 kJ·mol －1 写出TiO 2 和焦炭、氯气反应生成TiCl 4 和CO气体的热化学方程式： 。