【简答题】干法刻蚀是一种应用等离子技术的方法,等离子是具有一定导电能力的(),包含()、()、(原子)、()、分子和它们的激发态,宏观上呈电中性。
【单选题】某男性患者44岁,为某厂喷漆工,工龄5年,近半年来出现头痛、头晕、乏力、恶心、牙龈出血等症状,实验室检查WBC3.5×l09/L,血小板55×l09/L,该工人最可能的诊断是
【判断题】在半导体制造工艺中有干法刻蚀和湿法刻蚀两种基本的刻蚀工艺。前者是小尺寸下刻蚀器件的最主要方法,后者一般只是用在大于3微米的情况下。
【判断题】在半导体制造工艺中有两种基本的刻蚀工艺:干法刻蚀和湿法刻蚀。前者是小尺寸下刻蚀器件的最主要方法,后者一般只是用在大于3微米的情况下。
【简答题】刻蚀的方法有两类:湿法刻蚀和干法刻蚀,其中,()是利用液体化学试剂以化学形式除去硅片表面材料。而()是利用等离子体辅助来进行刻蚀的技术,刻蚀反应中不涉及液体。
【判断题】晶体硅常用的刻蚀方法有干法刻蚀和湿法刻蚀( )
【单选题】下列有关实验的说法正确的是
A.
用pH试纸蘸取NaOH溶液,立刻与比色卡对比,测定NaOH溶液的Ph
B.
通过观察图中导管水柱的变化,验证铁钉生锈的原因主要是吸氧腐蚀
C.
均不能采取将溶液直接蒸干的方法制得AIC1 3 、A1 2 (SO 4 ) 3 、FeC1 3 、Fe 2 (SO 4 ) 3
D.
滴定用的滴定管、锥形瓶和配制一定物质的量浓度溶液用的容量瓶,使用前均要润洗