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【单选题】
腺相关病毒( AAV)是一类结构简单的单链DNA病毒,能感染多种动物细胞,但不易引起免疫反应。AAV的 复制 需要辅助病毒(通常为腺病毒),在缺乏辅助病毒时, AAV整合其基因组到人类第19号染色体的特异性位点,进入潜伏状态。下列有关AAV的叙述,正确的是
A.
是细胞内寄生的原核生物
B.
遗传信息 传递不遵循中心法则
C.
可作为基因治疗的理想载体
D.
与双链 DNA 病毒相比变种少
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参考答案:
举一反三
【单选题】关于在报表中添加日期和时间的说法,正确的是( )。
A.
只能添加在页面页脚或页面页眉
B.
只能添加在报表页脚或报表页眉
C.
只能添加在报表页脚或页面页脚
D.
可以安排在报表的任何节区里
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【单选题】PECVD 工序的目的是为了在硅表面形成一层致密的薄膜,薄膜的组成部分主要是?
A.
二氧化硅
B.
二氧化钛
C.
氮化硅
D.
氢原子
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【单选题】在Word中,以下哪个选项卡可为文档添加页眉或页脚
A.
视图
B.
插入
C.
编辑
D.
邮件
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【多选题】PECVD的主要目的是?
A.
减少光的反射,提高电池片对光的吸收
B.
氢钝化,减少电池片表面覆合。
C.
染色,为光伏提供不同颜色。
D.
保护,防止水蒸气或腐蚀性气体的影响。
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【单选题】在Word2010文档中,利用[ ]选项卡可以方便地添加页眉或页脚。
A.
开始
B.
插入
C.
引用
D.
视图
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【单选题】《无公害农产品 种植业产地环境条件》中对( )作了规定。
A.
灌溉水
B.
空气
C.
投入品
D.
土地面积
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【多选题】下列有关添加页眉和页脚的描述,正确的是:()
A.
执行过该命令的旧文档,可以重复使用“添加页眉和页脚”对话框来进行新页眉和页脚的添加
B.
不同于页面缩略图标签选项中的编排页码,“添加页眉和页脚”选项添加的页码,直接被添加到了文档的实际页面上
C.
通过对“页面范围”选项的指定,可以将不同的页眉或页脚添加到文档的奇偶页上
D.
在“页码和日期格式“选项中可以自定义所需的页码样式
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【单选题】无公害农产品种植业产地环境条件中,灌溉水的指标包括 四类。
A.
水田、旱地、菜地、食用菌
B.
粮食、经济作物、蔬菜、食用菌
C.
林地、菜地、粮食、食用菌
D.
牧场、菜地、粮食、食用菌
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【多选题】《无公害农产品 种植业产地环境条件》中对( )作了规定。
A.
灌溉水
B.
空气
C.
投入品
D.
土壤
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【多选题】下面关于几种CVD方法的描述正确的是()。D. 做CVD淀积钨时,采用六氟化钨WF6作为气体源,六氟化钨能 与衬底窗口处的硅反应,而不与二氧化硅、氮化硅反应, 所以钨可以选择性地沉积在硅接触窗口中。
A.
LPCVD不能淀积二氧化硅薄膜
B.
等离子体增强化学气相淀积(PECVD)是目前最主要的化学气相淀积系统,低温淀积是其最主要优点。
C.
低压化学气相淀积系统(LPCVD)淀积的某些薄膜,在均匀性和台阶覆盖等方面比APCVD系统的要好,而且污染也少。
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相关题目:
【单选题】关于在报表中添加日期和时间的说法,正确的是( )。
A.
只能添加在页面页脚或页面页眉
B.
只能添加在报表页脚或报表页眉
C.
只能添加在报表页脚或页面页脚
D.
可以安排在报表的任何节区里
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【单选题】PECVD 工序的目的是为了在硅表面形成一层致密的薄膜,薄膜的组成部分主要是?
A.
二氧化硅
B.
二氧化钛
C.
氮化硅
D.
氢原子
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【单选题】在Word中,以下哪个选项卡可为文档添加页眉或页脚
A.
视图
B.
插入
C.
编辑
D.
邮件
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【多选题】PECVD的主要目的是?
A.
减少光的反射,提高电池片对光的吸收
B.
氢钝化,减少电池片表面覆合。
C.
染色,为光伏提供不同颜色。
D.
保护,防止水蒸气或腐蚀性气体的影响。
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【单选题】在Word2010文档中,利用[ ]选项卡可以方便地添加页眉或页脚。
A.
开始
B.
插入
C.
引用
D.
视图
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【单选题】《无公害农产品 种植业产地环境条件》中对( )作了规定。
A.
灌溉水
B.
空气
C.
投入品
D.
土地面积
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【多选题】下列有关添加页眉和页脚的描述,正确的是:()
A.
执行过该命令的旧文档,可以重复使用“添加页眉和页脚”对话框来进行新页眉和页脚的添加
B.
不同于页面缩略图标签选项中的编排页码,“添加页眉和页脚”选项添加的页码,直接被添加到了文档的实际页面上
C.
通过对“页面范围”选项的指定,可以将不同的页眉或页脚添加到文档的奇偶页上
D.
在“页码和日期格式“选项中可以自定义所需的页码样式
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【单选题】无公害农产品种植业产地环境条件中,灌溉水的指标包括 四类。
A.
水田、旱地、菜地、食用菌
B.
粮食、经济作物、蔬菜、食用菌
C.
林地、菜地、粮食、食用菌
D.
牧场、菜地、粮食、食用菌
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【多选题】《无公害农产品 种植业产地环境条件》中对( )作了规定。
A.
灌溉水
B.
空气
C.
投入品
D.
土壤
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【多选题】下面关于几种CVD方法的描述正确的是()。D. 做CVD淀积钨时,采用六氟化钨WF6作为气体源,六氟化钨能 与衬底窗口处的硅反应,而不与二氧化硅、氮化硅反应, 所以钨可以选择性地沉积在硅接触窗口中。
A.
LPCVD不能淀积二氧化硅薄膜
B.
等离子体增强化学气相淀积(PECVD)是目前最主要的化学气相淀积系统,低温淀积是其最主要优点。
C.
低压化学气相淀积系统(LPCVD)淀积的某些薄膜,在均匀性和台阶覆盖等方面比APCVD系统的要好,而且污染也少。
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