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【单选题】
计算机网络中的资源子网支持网络中的用户资源共享，能够共享的资源有软件资源和（ ）。
A.
CPU
B.
CPU 、外设
C.
CPU 、存储器和外设
D.
CPU 、存储器、外设和网络使用权
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举一反三
【简答题】下图是实验室常用的实验仪器与装置．依据题目要求回答下列问题： （1）写出标号仪器的名称：①______；②______． （2）采用分解过氧化氢溶液与二氧化锰的混合物的方法制取氧气有许多优点，如______（填序号）． ①产物无污染   ②不需加热   ③需加热   ④生成物只有氧气． （3）为确定某集气瓶最多可收集氧气的体积，请设计一个简便的测量方法（仪器用品等任选）：______． （4）甲同...
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【单选题】凡工作地点狭窄、工作人员活动困难,周围有大面积接地导体或金属构架 因而存在高度触电危险的环境以及特别的场所,则使用时的安全电压为( )
A.
9
B.
12
C.
24
D.
36
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【单选题】凡 工作地点狭 窄 、 工 作人员活动困难 ,周图有大面积 接地导 体或金属构架 , 因 而存在高度触电 危 险的环境以及特别的场所,则使用时的安全电压( )V
A.
9
B.
12
C.
24
D.
36
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【判断题】营销者往往制造一些话题,让消费者产生一种“大家都买过了,或都吃过了,我没有消费就落伍了”的感觉。这种营销是利用了消费者常见动机中的从众动机。
A.
正确
B.
错误
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【单选题】能消除测定方法中的系统误差的措施是 ( )
A.
增加平行测定次数
B.
称样量在 0.2g 以上
C.
称样量在 0.2g 以上
D.
认真细心地做实验
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【判断题】在工艺流程设计中,置通的二阶段设计是指初步设计和施工图设计。
A.
正确
B.
错误
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【简答题】下图是实验室常用的实验仪器与装置．依据题目要求回答下列问题： （1）写出标号仪器的名称：① ；② 。 （2）采用分解过氧化氢溶液与二氧化锰的混合物的方法制取氧气有许多优点，如 （填序号）。 ①产物无污染  ②不需加热  ③需加热  ④生成物只有氧气 （3）为确定某集气瓶最多可收集氧气的体积，请设计一个简便的测量方法（仪器用品等任选）： 。 （4）甲同学用分解过氧化氢溶液的方法制取并收集氧气，应分别...
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【单选题】凡工作地点狭窄、工作人员活动困难，周围有大面积接地导体或金属构架，因而存在高度触电危险的环境以及特别的场所，则使用时的安全电压为()。
A.
9V
B.
12V
C.
24V
D.
36V
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【判断题】营销者往往制造一些话题，让消费者产生一种“大家都买过了，或都吃过了，我没有消费就落伍了”的感觉。这种营销是利用了消费者常见动机中的从众动机。
A.
正确
B.
错误
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【单选题】第二代计算机的主要元件采用( )
A.
大规模和超大规模集成电路
B.
中、小规模集成电路
C.
晶体管
D.
电子管
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【单选题】凡工作地点狭窄、工作人员活动困难,周围有大面积接地导体或金属构架 因而存在高度触电危险的环境以及特别的场所,则使用时的安全电压为( )
A.
9
B.
12
C.
24
D.
36
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【单选题】凡 工作地点狭 窄 、 工 作人员活动困难 ,周图有大面积 接地导 体或金属构架 , 因 而存在高度触电 危 险的环境以及特别的场所,则使用时的安全电压( )V
A.
9
B.
12
C.
24
D.
36
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【判断题】营销者往往制造一些话题,让消费者产生一种“大家都买过了,或都吃过了,我没有消费就落伍了”的感觉。这种营销是利用了消费者常见动机中的从众动机。
A.
正确
B.
错误
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【单选题】能消除测定方法中的系统误差的措施是 ( )
A.
增加平行测定次数
B.
称样量在 0.2g 以上
C.
称样量在 0.2g 以上
D.
认真细心地做实验
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【判断题】在工艺流程设计中,置通的二阶段设计是指初步设计和施工图设计。
A.
正确
B.
错误
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【简答题】下图是实验室常用的实验仪器与装置．依据题目要求回答下列问题： （1）写出标号仪器的名称：① ；② 。 （2）采用分解过氧化氢溶液与二氧化锰的混合物的方法制取氧气有许多优点，如 （填序号）。 ①产物无污染  ②不需加热  ③需加热  ④生成物只有氧气 （3）为确定某集气瓶最多可收集氧气的体积，请设计一个简便的测量方法（仪器用品等任选）： 。 （4）甲同学用分解过氧化氢溶液的方法制取并收集氧气，应分别...
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【单选题】凡工作地点狭窄、工作人员活动困难，周围有大面积接地导体或金属构架，因而存在高度触电危险的环境以及特别的场所，则使用时的安全电压为()。
A.
9V
B.
12V
C.
24V
D.
36V
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【判断题】营销者往往制造一些话题，让消费者产生一种“大家都买过了，或都吃过了，我没有消费就落伍了”的感觉。这种营销是利用了消费者常见动机中的从众动机。
A.
正确
B.
错误
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【单选题】第二代计算机的主要元件采用( )
A.
大规模和超大规模集成电路
B.
中、小规模集成电路
C.
晶体管
D.
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