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【单选题】
一存储器芯片的存储容量为4K×8位,它的地址线和数据线为( )。
A.
地址线14根, 数据线8根
B.
地址线12根, 数据线4根
C.
地址线12根, 数据线8根
D.
地址线14根, 数据线4根
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参考答案:
举一反三
【简答题】我国刑法关于溯及力的原则是( )。
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【多选题】常用来表示研究工具内在一致性大小的是
A.
复本信度
B.
重测信度
C.
折半系数
D.
KR—20值
E.
Cronbach'a相关系数
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【简答题】我国现行《刑法》关于溯及力问题采取的原则是( )。
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【简答题】下图是某市自来水公司生产工艺流程图: 请回答下列问题: (1)通过加氯系统加氯,通常加入ClO 2 气体。我国的科学家研制一种制备ClO 2 的方法,将经干燥空气稀释的氯气与固体亚氯酸钠(NaClO 2 )的反应制得,并获得副产品食盐。化学反应方程式为____________________。此法的优点是_______________ (2)净水剂投加系统常用________作净水剂。(填字母) ...
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【简答题】试述刑法溯及力的概念及我国刑法关于溯及力问题的规定。
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【简答题】小明同学取下列生活中的物质,测得其pH如表所示: 物质 肥皂水 雨水 糖水 柠檬汁 洗洁精 pH 10.2 5.2 7.0 2.5 12.2 由此判断: (1)酸性最强的物质是______. (2)能使无色酚酞试液变红色的物质是______(填一种物质即可). (3)小明生活的环境所降的雨水______(填“属于”或“不属于”)酸雨. (4)橄榄油中含有多种物质,油酸(单不饱和脂肪酸):70-80...
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【单选题】碳化铝固体与水作用产生的气体是 A、C2H2 B、CH3CCH C、CO2 D、CH4
A.
B.
C.
D.
D
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【简答题】氮化铝(AlN)是一种新型无机材料,广泛应用与集成电路生产领域.某氮化铝中含有碳或氧化铝杂质,现用图Ⅰ中的一些装置来进行检验,使氮化铝样品和NaOH溶液反应AlN+NaOH+H 2 O=NaAlO 2 +NH 3 ↑,根据反应中所生成氨气的体积来测定样品中的氮化铝的质量分数,并根据实验现象来确定杂质的成分(实验中导管体积忽略不计). (1)实验有关操作为:a、往烧瓶中放入适量的AlN样品;b、从分...
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【判断题】我国刑法关于刑法溯及力问题采取的原则是从新兼从轻原则。()
A.
正确
B.
错误
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【简答题】写出下列反应方程式: (1)固体碳酸钠同氧化铝一起熔烧,将熔块打碎后投入水中,产生白色乳状沉淀。 (2)氢化铝锂与三氟化硼在醚溶剂中反应制备乙硼烷。 (3)铝和热浓的NaOH溶液作用,放出气体。 (4)三氟化硼通人碳酸钠溶液中。 (5)[GaH4]-与过量HCI反应的产物。
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重测信度
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折半系数
D.
KR—20值
E.
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【简答题】下图是某市自来水公司生产工艺流程图: 请回答下列问题: (1)通过加氯系统加氯,通常加入ClO 2 气体。我国的科学家研制一种制备ClO 2 的方法,将经干燥空气稀释的氯气与固体亚氯酸钠(NaClO 2 )的反应制得,并获得副产品食盐。化学反应方程式为____________________。此法的优点是_______________ (2)净水剂投加系统常用________作净水剂。(填字母) ...
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【简答题】小明同学取下列生活中的物质,测得其pH如表所示: 物质 肥皂水 雨水 糖水 柠檬汁 洗洁精 pH 10.2 5.2 7.0 2.5 12.2 由此判断: (1)酸性最强的物质是______. (2)能使无色酚酞试液变红色的物质是______(填一种物质即可). (3)小明生活的环境所降的雨水______(填“属于”或“不属于”)酸雨. (4)橄榄油中含有多种物质,油酸(单不饱和脂肪酸):70-80...
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【单选题】碳化铝固体与水作用产生的气体是 A、C2H2 B、CH3CCH C、CO2 D、CH4
A.
B.
C.
D.
D
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【简答题】氮化铝(AlN)是一种新型无机材料,广泛应用与集成电路生产领域.某氮化铝中含有碳或氧化铝杂质,现用图Ⅰ中的一些装置来进行检验,使氮化铝样品和NaOH溶液反应AlN+NaOH+H 2 O=NaAlO 2 +NH 3 ↑,根据反应中所生成氨气的体积来测定样品中的氮化铝的质量分数,并根据实验现象来确定杂质的成分(实验中导管体积忽略不计). (1)实验有关操作为:a、往烧瓶中放入适量的AlN样品;b、从分...
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【判断题】我国刑法关于刑法溯及力问题采取的原则是从新兼从轻原则。()
A.
正确
B.
错误
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【简答题】写出下列反应方程式: (1)固体碳酸钠同氧化铝一起熔烧,将熔块打碎后投入水中,产生白色乳状沉淀。 (2)氢化铝锂与三氟化硼在醚溶剂中反应制备乙硼烷。 (3)铝和热浓的NaOH溶液作用,放出气体。 (4)三氟化硼通人碳酸钠溶液中。 (5)[GaH4]-与过量HCI反应的产物。
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