皮皮学,免费搜题
登录
logo - 刷刷题
搜题
【多选题】
卵石、碎石试验试样取样方法及试样处理()是关于它的对描述.
A.
在料堆上取样时,取样部位应均匀分布.取样前先将取样部位表层铲除,然后从不同部位随机抽取大致等量的石子15份(在料堆的顶部、中部和底部均匀分布的15个不同部位取得)组成一组样品;
B.
将所取样品置于平板上,在自然状态下拌和均匀,并堆成堆体,然后沿互相垂直的两条直径把堆体分成大致相等的四份,取其中对角线的两份重新拌匀,再堆成堆体。重复上述过程,直至把样品分到试验所需量为止。
C.
堆积密度试验所用试样可不经缩分,在拌匀后直接进行试验。
D.
密度试验所用试样可不经缩分,在拌匀后直接进行试验。
手机使用
分享
复制链接
新浪微博
分享QQ
微信扫一扫
微信内点击右上角“…”即可分享
反馈
参考答案:
举一反三
【简答题】单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用焦炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500 ℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。 相关信息如下: a.四氯化硅遇水极易水解; b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物; c.有关物质的物理常数见下表: 物 质 SiCl 4 B...
【判断题】禅宗寺院的方丈室叫华林丈室,净土宗的方丈室叫般若丈室。
A.
正确
B.
错误
【简答题】单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。 相关信息如下: a.四氯化硅遇水极易水解; b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物; c.有关物质的物理常数见下表: 物质 SiCl 4 BCl ...
【多选题】在Windows 7中,下列说法不正确的是( )。
A.
一个应用程序窗口可含多个文档窗口
B.
一个应用程序窗口与多个应用程序相对应
C.
应用程序窗口关闭后,其对应的程序结束运行
D.
应用程序窗口最小化后,其对应的程序仍占用系统资源
【简答题】单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。 相关信息如下:①四氯化硅遇水极易水解; ②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;③有关物质的物理常数见下表 请回答下列问题: (1)写出装置A中发生...
【判断题】从自己的实际情况出发,循序渐进地进行锻炼,不要急于求成,应做自己力所能及的动作。锻炼时间不宜过长,练习负荷不宜过重,以免过度疲劳或发生运动损伤。
A.
正确
B.
错误
【简答题】由粗硅经氯化硅制备纯硅的反应方程式是 。( 可拍照上传)
【简答题】由粗硅经氯化硅制备纯硅的反应方程式是 。
【判断题】从自己的实际情况出发,循序渐进地进行锻炼,不要急于求成,应做自己力所能及的动作。锻炼时间不宜过长,练习负荷不宜过重,以免过度疲劳或发生运动损伤
A.
正确
B.
错误
【单选题】在Windows 7中,下列说法正确的是( )。
A.
利用鼠标拖动对话框的边框可以改变对话框的大小
B.
鼠标拖动窗口边框可以移动窗口
C.
窗口最小化后不能还原
D.
窗口最大化后不能再移动
相关题目:
参考解析:
知识点:
题目纠错 0
发布
创建自己的小题库 - 刷刷题