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【单选题】
The main duty of the British Privy Council is to .
A.
make decisions
B.
give advice
C.
pass bills
D.
supervise the Cabinet
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参考答案：
举一反三
【单选题】在PowerPoint中,下列有关幻灯片母版中页眉页脚的说法中错误的是( )。
A.
页眉或页脚是添加在演示文稿中的注释性内容
B.
典型的页眉页脚内容是日期、时间以及幻灯片编号
C.
在打印幻灯片时，页眉页脚的内容也可打印出来
D.
不能设置页眉和页脚的文本格式
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【多选题】潜在客户的特征( MAN 法则)有()?
A.
潜在需求
B.
购买欲望
C.
购买力
D.
购买决策权
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【判断题】《无公害农产品 种植业产地环境条件》对土壤质量的要求是参照土壤环境质量标准。
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案
【多选题】下面关于集中CVD方法描述正确的是（）。C. 做CVD淀积钨时，采用六氟化钨WF6作为气体源，六氟化钨能
与衬底窗口处的硅反应，而不与二氧化硅、氮化硅反应,
所以钨可以选择性地沉积在硅接触窗口中。
A.
等离子体增强化学气相淀积(PECVD)是目前最主要的化学气相淀积系统，低温淀积是其最主要优点。
B.
低压化学气相淀积系统（LPCVD）淀积的某些薄膜，在均匀性和台阶覆盖等方面比APCVD系统的要好，而且污染也少。
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【单选题】无公害农产品种植业产地环境条件中,灌溉水的指标包括 四类。
A.
水田、旱地、菜地、食用菌
B.
粮食、经济作物、蔬菜、食用菌
C.
林地、菜地、粮食、食用菌
D.
牧场、菜地、粮食、食用菌
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【多选题】潜在客户的特征具体判断的标准包括（）。
A.
有钱人
B.
有决定权人
C.
有需求的人
D.
有地位的人
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【判断题】无公害农产品种植业产地环境条件中,粮食用地的灌溉水标准严于菜地。
A.
正确
B.
错误
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【简答题】潜在客户的特征 ?
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【单选题】下列哪一项是潜在客户的特征
A.
目前预算不足，或不具有购买能力
B.
具有购买能力和需求
C.
有消费能力和购买渠道
D.
了解商品信息，且有购买欲
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【多选题】下面关于几种CVD方法描述正确的是（）。C. 做CVD淀积钨时，采用六氟化钨WF6作为气体源，六氟化钨能
与衬底窗口处的硅反应，而不与二氧化硅、氮化硅反应,
所以钨可以选择性地沉积在硅接触窗口中。
A.
等离子体增强化学气相淀积(PECVD)是目前最主要的化学气相淀积系统，低温淀积是其最主要优点。
B.
低压化学气相淀积系统（LPCVD）淀积的某些薄膜，在均匀性和台阶覆盖等方面比APCVD系统的要好，而且污染也少。
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【单选题】在PowerPoint中,下列有关幻灯片母版中页眉页脚的说法中错误的是( )。
A.
页眉或页脚是添加在演示文稿中的注释性内容
B.
典型的页眉页脚内容是日期、时间以及幻灯片编号
C.
在打印幻灯片时，页眉页脚的内容也可打印出来
D.
不能设置页眉和页脚的文本格式
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【多选题】潜在客户的特征( MAN 法则)有()?
A.
潜在需求
B.
购买欲望
C.
购买力
D.
购买决策权
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【判断题】《无公害农产品 种植业产地环境条件》对土壤质量的要求是参照土壤环境质量标准。
A.
正确
B.
错误
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【多选题】下面关于集中CVD方法描述正确的是（）。C. 做CVD淀积钨时，采用六氟化钨WF6作为气体源，六氟化钨能
与衬底窗口处的硅反应，而不与二氧化硅、氮化硅反应,
所以钨可以选择性地沉积在硅接触窗口中。
A.
等离子体增强化学气相淀积(PECVD)是目前最主要的化学气相淀积系统，低温淀积是其最主要优点。
B.
低压化学气相淀积系统（LPCVD）淀积的某些薄膜，在均匀性和台阶覆盖等方面比APCVD系统的要好，而且污染也少。
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【单选题】无公害农产品种植业产地环境条件中,灌溉水的指标包括 四类。
A.
水田、旱地、菜地、食用菌
B.
粮食、经济作物、蔬菜、食用菌
C.
林地、菜地、粮食、食用菌
D.
牧场、菜地、粮食、食用菌
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【多选题】潜在客户的特征具体判断的标准包括（）。
A.
有钱人
B.
有决定权人
C.
有需求的人
D.
有地位的人
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【判断题】无公害农产品种植业产地环境条件中,粮食用地的灌溉水标准严于菜地。
A.
正确
B.
错误
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【简答题】潜在客户的特征 ?
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【单选题】下列哪一项是潜在客户的特征
A.
目前预算不足，或不具有购买能力
B.
具有购买能力和需求
C.
有消费能力和购买渠道
D.
了解商品信息，且有购买欲
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【多选题】下面关于几种CVD方法描述正确的是（）。C. 做CVD淀积钨时，采用六氟化钨WF6作为气体源，六氟化钨能
与衬底窗口处的硅反应，而不与二氧化硅、氮化硅反应,
所以钨可以选择性地沉积在硅接触窗口中。
A.
等离子体增强化学气相淀积(PECVD)是目前最主要的化学气相淀积系统，低温淀积是其最主要优点。
B.
低压化学气相淀积系统（LPCVD）淀积的某些薄膜，在均匀性和台阶覆盖等方面比APCVD系统的要好，而且污染也少。
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