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【简答题】
制备硅半导体材料必须先得到。三氯甲硅烷 ( SiHCl 3 ) 还原法是当前制备的主要方法,生产过程示意图如下: ( 1 ) 写出由纯 SiHCl 3 制备的化学反应方程式: _____________________ _____ ____________ 。 ( 2 )整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出反应的化学反应方程式:___________________ _______________________;H2还原SiHCl3过程中若混有O2,可能引起的后果是_________________。
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参考答案:
举一反三
【单选题】The amendment of the Constitution requires the approval of at least ( ) of the states.
A.
one-third
B.
two-thirds
C.
three-fourths
【单选题】静脉输液时造成病人急性肺水肿发生的原因是:
A.
输入致热物质
B.
输液速度过快
C.
长时间输入高浓度药液
D.
输液过程中无人守护
E.
未能执行无菌操作
【简答题】选词填空 A. late delivery B. L/C extension C. shipment date D. advising bank E. expiry date (1) We wish to call your attention to the validity of the L/C, since there is no possibility of ____________. (2...
【单选题】函数 f(x)= x -1 在( )时为无穷小.
A.
x->1
B.
x->0
C.
x->∞
【判断题】函数f(x)=1/x为无穷小.
A.
正确
B.
错误
【单选题】以下哪项是发生输液时,发生急性肺水肿的原因()
A.
护士粗心大意,没有严格检查药物质量
B.
护士未能严格执行消毒制度
C.
输液装置质量不合格
D.
病人为听从护士嘱咐,自行调快输液速度
【单选题】静脉输液时造成病人急性肺水肿发生的原因是
A.
输入致热物质
B.
输液速度过快
C.
长时间输入高浓度药液
D.
输液过程中无人守护
【判断题】患者在输液过程中发生急性肺水肿的根本原因是:短时间内输入过多液体,使循环血量急剧增加,心脑负荷过重引起。()
A.
正确
B.
错误
【单选题】下列哪项不属于痰湿质的特征
A.
体形肥胖,腹部肥软
B.
面部皮肤油脂较多
C.
性格温和,多善忍耐
D.
易患疮疖、黄疸等病
E.
对梅雨季节及湿重环境适应能力差
【单选题】There is ___________ fury among public over the amendment of the new law.
A.
mounting
B.
climbing
C.
stunning
D.
mitigating
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