制备硅半导体材料必须先得到。三氯甲硅烷 ( SiHCl 3 ) 还原法是当前制备的主要方法,生产过程示意图如下: ( 1 ) 写出由纯 SiHCl 3 制备的化学反应方程式: _____________________ _____ ____________ 。 ( 2 )整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出反应的化学反应方程式:___________________ _______________________;H2还原SiHCl3过程中若混有O2,可能引起的后果是_________________。