【单选题】设MOS结构氧化层中的正电荷分布分以下三种情况: 均匀分布; 三角形分布,金属附近最高,硅表面附近为O;三角形分布,金属附近为0,硅表面附近最高.若正电荷的总量相同,氧化层的厚度相同,如果这三种情况所对应的平带电压大小分别为|V FB1 |,|V FB2 |,|V FB3 |,则它们之间的关系为___________.
A.
|V FB1 |=|V FB2 |=|V FB3 |
B.
|V FB3 |>|V FB1 |>|V FB2 |
C.
|V FB2 |>|V FB1 |>|V FB3 |
D.
|V FB1 |>|V FB3 |>|V FB2 |